Студопедия КАТЕГОРИИ: АвтоАвтоматизацияАрхитектураАстрономияАудитБиологияБухгалтерияВоенное делоГенетикаГеографияГеологияГосударствоДомЖурналистика и СМИИзобретательствоИностранные языкиИнформатикаИскусствоИсторияКомпьютерыКулинарияКультураЛексикологияЛитератураЛогикаМаркетингМатематикаМашиностроениеМедицинаМенеджментМеталлы и СваркаМеханикаМузыкаНаселениеОбразованиеОхрана безопасности жизниОхрана ТрудаПедагогикаПолитикаПравоПриборостроениеПрограммированиеПроизводствоПромышленностьПсихологияРадиоРегилияСвязьСоциологияСпортСтандартизацияСтроительствоТехнологииТорговляТуризмФизикаФизиологияФилософияФинансыХимияХозяйствоЦеннообразованиеЧерчениеЭкологияЭконометрикаЭкономикаЭлектроникаЮриспунденкция |
Биполярный транзистор, принцип действия, физические процессы в структуре с двумя взаимодействующими переходами
Биполя́рныйтранзи́стор — трёхэлектродный полупроводниковый прибор, один из типов транзисторов. В полупроводниковой структуре сформированы 2 p-n перехода и перенос заряда в приборе осуществляется носителями 2 видов — электронами и дырками. Именно поэтому прибор получил название «биполярный Принцип действия основан на создании транзитного потока носителей заряда из эмиттера в коллектор и управления выходным током(коллекторного) за счет входного(эмиттерного). Физ процессы: Один переход влияет на другой-транзистор работает, это возможно при Lдиф>>Wб(диф длина много больше ширины базы) База всегда электронейтральна!!! Rэм<Rк(всегда много меньше) Для того чтобы инжекция проходила в одну сторону. Распределение потока: при приложение прямого напряжения высота барьера уменьшается и дырки переходят в область базы, это движение дырок создает дырочную состовляющую тока Iэр(эмиттерный ток) Электроны движутся из n в p то создается Iэn.
Коэффициенты инжекции и переноса носителей заряда,коэффициент передачи тока биполярного транзистора. Основные уравнения. Активный режим работы,режимы отсечки и насыщения,инверсное включение. . Коэф-ты инжекции и переноса н.з. Коэф-т передачи тока БПТ. Основой работы любого транзистора является : 1)малая толщина базы 2)базовая область является всегда более высокоомной(слабо легированной) по сравнению с другими областями. ,- показывает , какую часть составляет полезный ток инжекции электронов из эмиттера в базу в полном токе эмиттера, где IЭР – дырочная компонента эмиттерного тока и IЭN-электронная компонента эмиттерн тока - показывает какая часть электронов инжектируемых из эмиттера в базу , достигает коллекторн перехода Рассмотрим активный режим (А): Uкб<0 Iко = Iкбо (тепл ток примерно = обр току) С учетом этих усл формулы имеют вид: (3.18) (3.19) Коллекторное U не влияет на токи,=>, выходные хар-киявл эквидистантными (расп на один раст) Рассмотрим режим насыщения (Н): Хар-ся Iк за счет встречной инжекции НЗ со стороны К в Б. Эти дырки компенс дырки, инжект из эмит в базу, пока не до нуля. Область насыщения – второй квадрант, т.к. Uкб=Uвнеш + . Если Uвнеш=0, дырки все еще переходят. Когда Uвнеш = - , т.е. скомп. при изм на «+» знака Uкб. Рассмотрим режим отсечки (О): Оба перехода в обр направлении
Iэ = 0 Iк = Iкб: ток коллектора и его хар-ки = ВАХ p-n перехода В этом режиме сопр-ия очень велики, а токи – малы. Входная ВАХ: С Uкбхар-ка, засчет ЭМТБ т.е. I смещается |
||
Последнее изменение этой страницы: 2018-05-27; просмотров: 272. stydopedya.ru не претендует на авторское право материалов, которые вылажены, но предоставляет бесплатный доступ к ним. В случае нарушения авторского права или персональных данных напишите сюда... |